Máquina de pulverização catódica Magetron
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Máquina de revestimento por pulverização catódica de magnetron de filme fino a vácuo
A técnica de pulverização de magnetron a vácuo é o uso da superfície de eletrodo bipolar fêmea com o campo magnético do elétron na deriva da superfície do cátodo, definindo o campo elétrico da superfície alvo perpendicular ao campo magnético, o elétron aumenta o curso, aumenta a taxa de ionização do gás, enquanto as partículas de alta energia gaseificam e perdem energia após a colisão e, portanto, baixam a temperatura do substrato, revestimento completo em um material não resistente à temperatura.
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Sistema de pulverização catódica de magnetron de deposição a vácuo
O sistema de pulverização por magnetron de deposição a vácuo é um tipo de equipamento a vácuo que pode ser usado para aplicar camadas de revestimento de película fina em diferentes matérias-primas com revestimentos metálicos ou funcionais.
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Máquina de revestimento por pulverização catódica magnética para talheres descartáveis de plástico
Atualmente, a pulverização catódica de magnetron é uma tecnologia de deposição de filme fino amplamente utilizada.Com o desenvolvimento contínuo da tecnologia de pulverização catódica e a exploração de novos filmes funcionais, a aplicação da pulverização catódica foi estendida a muitos campos de produção e pesquisa científica.Como uma tecnologia de revestimento não térmico no campo da microeletrônica, é usado principalmente em deposição de vapor químico (CVD) ou deposição de vapor químico orgânico de metal (MOCVD) para depositar películas finas de materiais que são difíceis de crescer e inadequados e podem obter filmes finos muito uniformes em grandes áreas.
