Máquina de deposição de arco catódico de revestimento a vácuo PVD para ferramentas de corte

Pequena descrição:

A máquina de deposição de arco catódico com revestimento a vácuo PVD usou a recém-desenvolvida fonte de íons de arco elétrico catódico.Esta nova fonte de arco pode efetivamente reduzir a quantidade e o tamanho das partículas durante o processo.Além disso, opera de forma estável e pode manter o trabalho por um longo tempo sob baixa eletricidade.Portanto, o filme de revestimento se conecta bem à base e é caracterizado por uma superfície lisa e alta microdureza, etc.

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A máquina de deposição de arco catódico de revestimento a vácuo PVD pode chapear muitos tipos de peças de trabalho (ferramenta e matriz, medidor e ferramenta de corte, rolamento e anel de pistão, etc.) Existem vários tipos de filme de revestimento (metal único ou liga).Pode ser usado não apenas para equipamentos de revestimento de filme funcional para prolongar a vida útil do produto, mas também para revestimento decorativo para melhorar a aparência dos produtos.

Características

● Gotículas, um grande defeito da deposição de arco catódico, são minimizadas com sucesso por nossa máquina de revestimento iônico de arco PVD
● Película espessa e densa com superfície extremamente lisa
● Alta taxa de deposição por alta densidade de energia e alta ionização
● Filmes multicamadas e filmes multiprocessados são possíveis

A máquina de deposição de arco catódico de revestimento a vácuo PVD pode depositar TiN, CrN, AITiN, AICrN, TiCN, TiAICrN, TiAISiN, DLC, revestimentos super duros multicamadas, que é usado na indústria de moldes de precisão (moldes, moldes de cisalhamento, moldes padrão, etc.), indústria de ferramentas (broca, liga dura, fresa, brocas, torneira de parafuso e cortador de engrenagem ect.) e indústria automobilística (pistão, anéis de pistão e peças etc.).

Inscrição

Equipado com várias fontes de arco / fonte de arco plano retangular e fonte de alimentação de polarização, pistola de cátodo oco múltipla opcional.Alta taxa de deposição, alta taxa de ionização, operação fácil.Densidade de plasma uniforme e reatividade estável com fonte de alimentação de viés de grade.
Tipo de filme: TiN, TiC, TiCN, TiAIN, TiCrN, TiCrCN, TiAICrN, filme Multiple Superhard, etc.
Recurso de revestimentos: Compacidade e adesivo de revestimentos fortes, revestimentos uniformes, alta dureza.
Observação: Especialmente adaptado de acordo com os produtos e requisitos de processo dos clientes.

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